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把有機廢氣加熱升溫至800℃,使廢氣中的VOC氧化分解,成為無害的CO2和H2O;氧化時的高溫氣體的熱量被蓄熱體“貯存”起來,用于預熱新進入的有機廢氣,從而節(jié)省升溫所需要的燃料消耗,降低運行成本。有機廢氣經高壓引風機進入蓄熱室的保留了上一循環(huán)熱量的陶瓷介質層后,陶瓷釋放熱量,溫度降低,而有機廢氣吸收熱量,溫度升高。廢氣離開蓄熱室后,以較高的溫度進入燃燒室,準備進行氧化。 在燃燒室中,有機廢氣再由燃燒器加熱燃燒,加熱升溫至設定的氧化溫度,此時溫度為設定的800℃,使有機物被分解成二氧化碳和水。由于廢氣已在蓄熱室內進行過預熱,燃燒器的燃料用量大為減少。廢氣流經蓄熱室升溫后進入氧化室焚燒,成為凈化后的高溫氣體后離開氧化室,進入在上一循環(huán)已冷卻的蓄熱室。在此氣體釋放熱量,降溫后排出,而蓄熱室吸收大量熱量后升溫,其吸收的熱量用于下一個循環(huán)加熱廢氣。在此同時,廢氣引風機經由反吹風管,從蓄熱室抽出少許前一循環(huán)殘留在其中的微量有機氣體,回送至廢氣風機進口處,再送入燃燒室中進行焚燒,此部分氣體同處理后氣體一起離開蓄熱室,經熱回收設備排入大氣。 是目前成熟、穩(wěn)定、有效的有機廢氣處理設備,采用提高前輩的熱交換技術和新型蜂窩陶瓷蓄熱材料,提高前輩的換熱系統(tǒng)保證了氧化分解熱量的有效回收,熱回收率95%以上,VOC凈化率99%以上,在有機廢氣凈化領域具有很大的技術上風。




OC廢氣處理設備從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。



有機廢氣處理設備 吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后,進入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應的工藝調整。 有機廢氣處理設備 當吸附進行一段時間后,由于表面吸附質的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附,以協的吸附能力,這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程,達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。 等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱為物質的第四種狀態(tài)。 根據狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài),它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K




工作原理及流程:催化凈化是典型的氣固相催化反應,其實質是活性氧參與的深度氧化作用。在催化凈化過程中,催化劑的作用是降低活化能,同時催化劑表面具有吸附作用,使反應物分子富集于表面提高了反應速率,加快了反應的進行。借助催化劑可使有機廢氣在較低的起燃溫度條件下,發(fā)生無焰燃燒,并氧化分解為CO2和H2O,同時放出大量熱能,從而達到去除廢氣中的有害物的方法。 吸附法關鍵適用較低濃度的煤層氣氣體空氣污染物的凈化,濃度較高的有機化學煤層氣汽體在吸附凈化前必須減少濃度值。吸附技術是經典、常見的有機廢氣處理技術,也是工業(yè)化生產中的流行技術之一。吸附法的核心技術是吸附劑、吸附機設備和加工技術、再制造材料和后處理技術?;钚蕴烤哂休^大的比表面積和微孔結構,廣泛應用于有機氣的吸附和回收?,F階段,活性炭吸附有機廢氣的科學研究關鍵集中化在吸附平衡的預測分析、活性碳原材料的改性及其有機化合物的理化性質對活性炭吸附特性的危害。


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