廢氣處理成套設備主要是運用不同工藝技術，通過回收或去除減少排放尾氣的有害成分，達到保護環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設備，讓我們的環(huán)境不受到污染。吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對VOCs進行吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質的差異進行分離。 含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸，凈化后的氣體由塔頂排出。 廢氣處理成套設備 吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 在用多孔性固體物質處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附的對象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質，多孔固體物質稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質后，一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離，此現附。 當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附，以協(xié)的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程，達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

吸附脫附催化燃燒設備有文獻表明，催化燃燒裝置催化焚燒時的“燃氣/空氣比值”范圍一般在4%～11%之間；在必定的焚燒條件之下，燃/空比為6%時，天然氣就能完成較好的催化焚燒作用，焚燒體系就可以得到熱效率，一起又能取得較好的排放作用。 吸附脫附催化燃燒設備 焚燒器溫度調理可以通過文本顯示器的鍵盤輸入，改動變頻器的輸出頻率，調理恰當的風量。當風量增大，焚燒溫度超越設定值，則PLc操控變頻器降低輸出頻率，減少出風量來安穩(wěn)焚燒器的溫度。若變頻器輸出頻率低于設定值(風機出風量頻率，設為5 Hz)，而出風量仍高于設定值時，PLc開端計時，若在必定時刻內，降低到設定值，PLc拋棄計時，持續(xù)變頻調速運轉；若在必定時刻內溫度仍高于設定，PLc將持續(xù)調理，直至到達設定值。由PLc經PID運算后操控變頻器的頻率輸出；如溫度不行，則頻率上升，延時堅持必定時刻。反之亦然。 化燃燒裝置可以說是一種較為常見的通過催化反應（無明火）處理有機污染物的方法，具有適用范圍廣，結構簡單，凈化速率高，節(jié)能、無二次污染等優(yōu)點，催化燃燒廢氣處理，為了避免催化劑床層的堵塞和催化劑中毒，廢氣在進入床層之前需要進行預處理，以除去廢氣中的粉塵、液滴及催化劑的毒物。希望大家在選購時選購一款比較適合自己的廢氣處理設備。