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設備_環(huán)保噴漆房廠家直銷省心省錢

更新時間:2025-07-28 00:03:10 ip歸屬地:唐山,天氣:陰轉雷陣雨,溫度:25-35 瀏覽次數(shù):28    公司名稱:贛州 越浩節(jié)能設備(唐山市分公司)

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光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。





光氧廢氣處理設備氣體分子被擊穿,產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設備 特點:① 采用單級或多級串聯(lián)洗滌,對污染物去除徹底,去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢,運行穩(wěn)定。③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負荷強、受溫度影響小、運行穩(wěn)定等特點。④ 自動化程度高,占地面積小,化學洗滌除臭設備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理?;钚蕴砍粼O備采取切線出風、環(huán)狀過濾、中間進風、上不加料、下部卸料的結構,克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設備投資高、更換活性炭困難等缺陷,使活性炭過濾設備結構設計近乎于完美。



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