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設(shè)備_無塵噴漆房真誠合作



作為大氣污染的重要來源，工業(yè)廢氣的高校治理尤為重要。由于生產(chǎn)的工藝不同，工業(yè)廢氣產(chǎn)生的污染物種類也不同，不同污染物種類應(yīng)采用不同的處理工藝。目前，市場上常見的工業(yè)廢氣治理技術(shù)主要有：干法脫硫、濕法脫硫、物理/化學(xué)吸收法、煙氣脫硝、稀釋法、堿液中和法等等, 由于使用不同的吸收劑可獲得不同的副產(chǎn)物而加以利用，因此濕法脫硫是各國研究多的方法。由于工業(yè)廢氣的成分越來越復(fù)雜，單一的廢氣處理技術(shù)方法很難達(dá)到理想的處理效果。業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為，綜合兩種或兩種以上處理技術(shù)，以及占地空間小、處理效率高的設(shè)備將受到市場關(guān)注。 資料顯示，治理惡臭廢氣的核心技術(shù)是靜電等離子廢氣治理技術(shù)，輔助技術(shù)是酸堿洗滌技術(shù)和生物膜過濾技術(shù)。靜電等離子技術(shù)是靜電技術(shù)與等離子技術(shù)的完美結(jié)合的復(fù)合技術(shù)，將靜電技術(shù)的吸附和凝聚特性與等離子技術(shù)的荷電和裂解特性有機(jī)組合，形成了靜電等離子技術(shù)的四大技術(shù)優(yōu)勢：荷電、裂解、吸附和凝聚，而廢氣的凈化就是這四種特性共同作用完成的。




OC廢氣處理設(shè)備從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。



光氧廢氣處理設(shè)備氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。 光氧廢氣處理設(shè)備 特點(diǎn)：① 采用單級或多級串聯(lián)洗滌，對污染物去除徹底，去除效率高。② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優(yōu)勢，運(yùn)行穩(wěn)定。③ 具有啟動速度快、可間歇運(yùn)行、耐沖擊負(fù)荷強(qiáng)、受溫度影響小、運(yùn)行穩(wěn)定等特點(diǎn)。④ 自動化程度高，占地面積小,化學(xué)洗滌除臭設(shè)備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理?；钚蕴砍粼O(shè)備采取切線出風(fēng)、環(huán)狀過濾、中間進(jìn)風(fēng)、上不加料、下部卸料的結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設(shè)備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計近乎于完美。




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